सिंगल - पक्षीय फोटोवोल्टिक ग्लास फोटोवोल्टिक मॉड्यूल के लिए एक महत्वपूर्ण सामग्री है। यह प्रकाश संप्रेषण को बढ़ाता है और एंटी - प्रतिबिंब कोटिंग तकनीक के माध्यम से बिजली उत्पादन दक्षता का अनुकूलन करता है। तकनीकी प्रगति के साथ, पतले, उच्च प्रकाश संप्रेषण और कार्यात्मककरण भविष्य के विकास के निर्देश बन गए हैं।
1। उत्पादन प्रक्रिया
एकल - पक्षीय फोटोवोल्टिक ग्लास की उत्पादन प्रक्रिया में मुख्य रूप से शामिल हैं:
A. एज पीस: कांच के किनारों से बूर निकालें
B. सफाई: सुनिश्चित करें कि सतह साफ है
सी। प्रीहीटिंग: कोटिंग के आसंजन को बढ़ाएं
डी। कोटिंग: रोलर कोटिंग या रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया
ई। इलाज: उच्च - तापमान sintering फिल्म परत के आसंजन को बढ़ाता है
एफ। टेम्परिंग: कांच की यांत्रिक शक्ति को बढ़ाएं
2। आवेदन परिदृश्य
A. सिंगल - ग्लास मॉड्यूल: मुख्य रूप से पारंपरिक क्रिस्टलीय सिलिकॉन फोटोवोल्टिक मॉड्यूल के सामने के पैनलों के लिए उपयोग किया जाता है।
B. वितरित फोटोवोल्टिक: छतों और वाणिज्यिक और औद्योगिक बिजली स्टेशनों जैसे परिदृश्यों पर लागू।
C. उच्च विकिरण क्षेत्र: उत्कृष्ट उच्च - तापमान प्रतिरोध, मजबूत प्रकाश वातावरण के लिए उपयुक्त।
3। विकास के रुझान
A. पतला: 2.0 मिमी और पतला ग्लास धीरे -धीरे लोकप्रिय हो रहा है, घटकों के वजन को कम कर रहा है।
B. हाइलाइट ट्रांसमिटेंस ऑप्टिमाइज़ेशन: डबल - लेयर कोटिंग और नई कम अपवर्तक सूचकांक सामग्री (जैसे MGF₂) पर अनुसंधान आगे बढ़ रहा है।
C. कार्यात्मक कोटिंग: जैसे कि स्व - सफाई, एंटी - चकाचौंध, और अन्य अतिरिक्त कार्य।
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